أدت الأجهزة الإلكترونية الجديدة مثل الشاشات التي تعمل باللمس أو الشاشات المرنة أو الإلكترونيات القابلة للطباعة أو الخلايا الكهروضوئية أو إضاءة الحالة الصلبة إلى زيادة سريعة في نمو سوق الموصلات الكهربائية المرنة والشفافة. يعرف قرائنا بالفعل أن ITO (أكسيد القصدير الإنديوم) لم يعد حلا منذ فترة طويلة. أيضا ، أن الطلب على الجرافين كبديل لمنظمة التجارة الدولية قد ارتفع بشكل حاد في السنوات الأخيرة. تظهر التطورات الحديثة في توليف وتوصيف الجرافين أنه مثير للاهتمام للعديد من التطبيقات الإلكترونية كموصل شفاف.

نظرا لأن الجرافين أثبت أنه مفيد في هذا المجال ، يتم البحث عن المزيد والمزيد من الاحتمالات القابلة للتطوير لطريقة إنتاج عالية الجودة وفي نفس الوقت غير مكلفة. يسرد الجدول التالي أهم طرق التوليف للجرافين حتى الآن.| طريقة التوليف | المبدأ | |----|----| | التقشير الميكانيكي | بمساعدة فيلم لاصق ، انزع الطبقة العليا من بلورة الجرافيت وانقلها إلى حامل مناسب | | التقشير الكيميائي | عن طريق إقحام الكواشف المناسبة بين الطبقات الفردية من بلورة الجرافيت ، يتم الحصول على رقائق الجرافين في محلول بمساعدة العلاج بالموجات فوق الصوتية | | اختزال أكسيد الجرافين | تقشير أكسيد الجرافيت في الماء إلى أكسيد الجرافين ، متبوعا بالاختزال الكيميائي لإزالة المجموعات المؤكسجة | | النمو فوق المحوري على كربيد السيليكون | التحلل الحراري لبلورة كربيد السيليكون عند حوالي 1000 درجة مئوية | | عزل طور الغاز المختلط (CVD) | التحلل التحفيزي لمصدر الكربون الغازي (مثل الميثان) إلى أحادي طبقات الجرافين على دعامة معدنية (Cu أو Ni) |

بالمناسبة ، تعد الأمراض القلبية الوعائية (ترسيب البخار الكيميائي) واحدة من أكثر الطرق إثارة للاهتمام لتخليق الجرافين (انظر الجدول أدناه) لأنها تنتج الجرافين المثالي تقريبا.| مادة الجرافين | كهربائي. العامل | الشفافية | |----|----|----| | CVD-G|280 Ω/متر مربع| 80٪| | CVD-G|350 Ω/قدم مربع|90٪| | CVD-G|700 Ω/قدم مربع|80٪|باستخدام طريقة التوليف هذه ، كانت الشفافية الناتجة ذات المقاومة الكهربائية المنخفضة عالية جدا (80٪).