Grafeen is 'n chemiese familielid van diamante, steenkool of die grafiet van potloodleidrade. Dit is een van die moeilikste en veerkragtigste materiale ter wêreld. Met slegs een atoomlaag (minder as 'n miljoenste van 'n millimeter dik), is dit ook een van die dunste materiale in die heelal.

Wat grafeen 'n materiaal met enorme ekonomiese potensiaal maak. Dit is omdat grafeen-gebaseerde produkte in sonselle, skerms en rekenaartoepassings gebruik kan word. Grafeentransistors is byvoorbeeld baie vinniger as silikontransistors.

Wat egter tans ontbreek, is die moontlikheid om grafeen op groot skaal teen lae koste te produseer. Maar daar word ook al etlike jare suksesvol daaraan gewerk. Daar is talle vervaardigingstegnieke vir grafeen. Een belowende vervaardigingsvariant is die CVD (Chemical Vapor Deposition) proses. In die CVD-proses word 'n chemiese reaksie op 'n oppervlak gegenereer deur middel van 'n gasmengsel en verhoogde temperatuur om grafeen te sintetiseer en dit dan na 'n verskeidenheid substrate oor te dra deur ets en te stempel.

Navorsers het nou die optimale katalisator vir die produksie van grootgroeiende grafeenoppervlaktes gevind. Dit is nikkelfilm as substraat, wat dan later weggeëts word. Wat vir baie egter verbasend was, was die ontdekking van CVD-groei van grafeen op koperfoelie, wat uitstekende homogeniteit en presiese beheer van lae toon. In hierdie proses word die groei van grafeen slegs beperk deur die grootte van die oppervlak.

Die navorsingsartikel toon dat CVD grootskaalse en hoë kwaliteit grafeenlae op koper vorm, wat na enige substraat oorgedra kan word en dan in enige gewenste vorm geëts kan word. Besonderhede kan gevind word in die URL van ons bron.