Grafen je chemický příbuzný diamantů, uhlí nebo grafitu tužkových vodičů. Je to jeden z nejtvrdších a nejodolnějších materiálů na světě. S jedinou atomovou vrstvou (tloušťkou méně než miliontina milimetru) je také jedním z nejtenčích materiálů ve vesmíru.

Což dělá z grafenu materiál s obrovským ekonomickým potenciálem. Je to proto, že produkty na bázi grafenu by mohly být použity v solárních článcích, displejích a počítačových aplikacích. Například grafenové tranzistory jsou mnohem rychlejší než křemíkové tranzistory.

Co však v současné době chybí, je možnost výroby grafenu ve velkém měřítku za nízkou cenu. Ale i na tom se úspěšně pracuje již několik let. Existuje mnoho výrobních technik pro grafen. Jednou ze slibných výrobních variant je proces CVD (Chemical Vapor Deposition). V procesu CVD se chemická reakce vytváří na povrchu pomocí směsi plynů a zvýšené teploty, aby se syntetizoval grafen a poté se přenesl na různé substráty leptáním a lisováním.

Vědci nyní našli optimální katalyzátor pro výrobu velkých grafenových povrchů. Jedná se o niklový film jako substrát, který je později vyleptán. Co však mnohé překvapilo, byl objev CVD růstu grafenu na měděné fólii, který vykazuje vynikající homogenitu a přesnou kontrolu vrstvení. V tomto procesu je růst grafenu omezen pouze velikostí povrchu.

Výzkumný článek ukazuje, že CVD vytváří velké a vysoce kvalitní grafenové vrstvy na mědi, které mohou být přeneseny na jakýkoli substrát a poté vyleptány do libovolného požadovaného tvaru. Podrobnosti naleznete v URL našeho zdroje.