A grafén a gyémántok, a szén vagy a ceruzavezetékek grafitjának kémiai rokona. Ez az egyik legnehezebb és legellenállóbb anyag a világon. Csak egy atomi réteggel (kevesebb, mint a milliméter milliomod része) ez az egyik legvékonyabb anyag az univerzumban.

Ami a grafént hatalmas gazdasági potenciállal rendelkező anyaggá teszi. Ez azért van, mert a grafén alapú termékek napelemekben, kijelzőkben és számítógépes alkalmazásokban használhatók. A grafén tranzisztorok például sokkal gyorsabbak, mint a szilícium tranzisztorok.

Ami azonban jelenleg hiányzik, az a grafén nagy mennyiségű, alacsony költségű előállításának lehetősége. De ezen is évek óta sikeresen dolgoztak. A grafénnek számos gyártási technikája van. Az egyik ígéretes gyártási változat a CVD (kémiai gőzfázisú lerakódás) eljárás. A CVD-eljárás során kémiai reakciót hoznak létre egy felületen gázkeverék és magas hőmérséklet segítségével grafén szintetizálására, majd maratással és bélyegzéssel különböző szubsztrátumokra továbbítják.

A kutatók most megtalálták az optimális katalizátort a nagy növekvő grafén felületek előállításához. Ez a nikkelfólia szubsztrátumként, amelyet később maratnak. Ami azonban sokak számára meglepő volt, az a grafén CVD növekedésének felfedezése rézfólián, amely kiváló homogenitást és a rétegződés pontos szabályozását mutatja. Ebben a folyamatban a grafén növekedését csak a felület mérete korlátozza.

A kutatási cikk azt mutatja, hogy a CVD nagyméretű és kiváló minőségű grafénrétegeket képez a rézen, amelyeket bármilyen hordozóra át lehet vinni, majd bármilyen kívánt alakba marni. A részletek forrásunk URL-jében találhatók.