グラフェンは、ダイヤモンド、石炭、または鉛筆の芯のグラファイトの化学的親戚です。これは、世界で最も硬くて弾力性のある材料の1つです。原子層が1つ(厚さが100万分の1ミリメートル未満)しかないため、宇宙で最も薄い材料の1つでもあります。

これにより、グラフェンは大きな経済的可能性を秘めた材料になります。これは、グラフェンベースの製品が太陽電池、ディスプレイ、およびコンピューターアプリケーションで使用できるためです。たとえば、グラフェントランジスタはシリコントランジスタよりもはるかに高速です。

しかし、現在欠けているのは、低コストで大規模にグラフェンを製造する可能性です。しかし、これも数年前からうまく取り組んできました。グラフェンには多くの製造技術があります。有望な製造バリアントの1つは、CVD(化学蒸着)プロセスです。CVDプロセスでは、ガス混合物と高温によって表面上で化学反応を起こしてグラフェンを合成し、エッチングとスタンピングによってさまざまな基板に移します。

研究者たちは現在、大きく成長するグラフェン表面の生成に最適な触媒を発見しました。これは基板としてのニッケル膜であり、後でエッチングされます。 しかし、多くの人にとって驚くべきことは、銅箔上のグラフェンのCVD成長の発見であり、これは優れた均質性と層状の正確な制御を示しています。このプロセスでは、グラフェンの成長は表面のサイズによってのみ制限されます。

研究論文は、CVDが銅上に大規模で高品質のグラフェン層を形成し、それを任意の基板に転写してから任意の形状にエッチングできることを示しています。詳細は、ソースのURLに記載されています。