그래핀은 다이아몬드, 석탄 또는 연필심의 흑연과 화학적 친척입니다. 그것은 세계에서 가장 단단하고 탄력있는 재료 중 하나입니다. 단 하나의 원자층(두께가 100만분의 1밀리미터 미만)인 이 물질은 또한 우주에서 가장 얇은 물질 중 하나입니다.

이는 그래핀을 엄청난 경제적 잠재력을 가진 물질로 만듭니다. 그래핀 기반 제품이 태양 전지, 디스플레이 및 컴퓨터 응용 분야에 사용될 수 있기 때문입니다. 예를 들어, 그래핀 트랜지스터는 실리콘 트랜지스터보다 훨씬 빠릅니다.

그러나 현재 누락 된 것은 저렴한 비용으로 대규모로 그래 핀을 생산할 수있는 가능성입니다. 그러나 이것은 또한 몇 년 동안 성공적으로 작업되었습니다. 그래핀에는 수많은 제조 기술이 있습니다. 유망한 제조 변형 중 하나는 CVD(화학 기상 증착) 공정입니다. CVD 공정에서는 가스 혼합물과 승온을 통해 표면에 화학 반응이 일어나 그래핀을 합성한 후 에칭 및 스탬핑을 통해 다양한 기판으로 전사합니다.

연구원들은 이제 크게 성장하는 그래핀 표면 생산을 위한 최적의 촉매를 발견했습니다. 이것은 기판으로서의 니켈 필름이며, 나중에 에칭됩니다. 그러나 많은 사람들에게 놀라운 것은 동박에서 그래핀의 CVD 성장이 발견되었다는 것인데, 이는 우수한 균질성과 적층의 정밀한 제어를 보여줍니다. 이 과정에서 그래핀의 성장은 표면의 크기에 의해서만 제한됩니다.

연구 논문에 따르면 CVD는 구리에 대규모 고품질 그래핀 층을 형성하며, 이는 모든 기판으로 전달된 다음 원하는 모양으로 에칭될 수 있습니다. 자세한 내용은 출처의 URL에서 확인할 수 있습니다.