Grafen er en kjemisk slektning av diamanter, kull eller grafitt av blyantledninger. Det er et av de hardeste og mest motstandsdyktige materialene i verden. Med bare ett atomlag (mindre enn en milliondel av en millimeter tykt), er det også et av de tynneste materialene i universet.

Noe som gjør grafén til et materiale med enormt økonomisk potensial. Dette er fordi grafénbaserte produkter kan brukes i solceller, skjermer og dataprogrammer. Grafentransistorer, for eksempel, er mye raskere enn silisiumtransistorer.

Det som for tiden mangler, er imidlertid muligheten for å produsere grafen i stor skala til lave kostnader. Men dette har det også vært jobbet med i flere år. Det er mange produksjonsteknikker for grafen. En lovende produksjonsvariant er CVD-prosessen (Chemical Vapor Deposition). I CVD-prosessen genereres en kjemisk reaksjon på en overflate ved hjelp av en gassblanding og forhøyet temperatur for å syntetisere grafen og deretter overføre den til en rekke substrater ved etsing og stempling.

Forskere har nå funnet den optimale katalysatoren for produksjon av store voksende grafenflater. Dette er nikkelfilm som substrat, som senere etses bort. Det som var overraskende for mange var imidlertid oppdagelsen av CVD-vekst av grafen på kobberfolie, som viser utmerket homogenitet og presis kontroll av lagdeling. I denne prosessen er veksten av grafen bare begrenset av overflatenes størrelse.

Forskningsartikkelen viser at CVD danner store og høykvalitets grafenlag på kobber, som kan overføres til hvilket som helst substrat og deretter etses inn i ønsket form. Detaljer finner du i nettadressen til kilden vår.