Grafen jest chemicznym krewnym diamentów, węgla lub grafitu ołówków. Jest to jeden z najtwardszych i najbardziej odpornych materiałów na świecie. Z tylko jedną warstwą atomową (mniej niż milionową część milimetra grubości) jest również jednym z najcieńszych materiałów we wszechświecie.

Co sprawia, że grafen jest materiałem o ogromnym potencjale ekonomicznym. Wynika to z faktu, że produkty na bazie grafenu mogą być stosowane w ogniwach słonecznych, wyświetlaczach i aplikacjach komputerowych. Na przykład tranzystory grafenowe są znacznie szybsze niż tranzystory krzemowe.

Obecnie brakuje jednak możliwości produkcji grafenu na dużą skalę przy niskich kosztach. Ale nad tym również z powodzeniem pracowano przez kilka lat. Istnieje wiele technik wytwarzania grafenu. Jednym z obiecujących wariantów produkcyjnych jest proces CVD (chemiczne osadzanie z fazy gazowej). W procesie CVD reakcja chemiczna jest generowana na powierzchni za pomocą mieszaniny gazów i podwyższonej temperatury w celu syntezy grafenu, a następnie przeniesienia go na różne podłoża poprzez trawienie i tłoczenie.

Naukowcy znaleźli optymalny katalizator do produkcji wielkorosnących powierzchni grafenowych. Jest to folia niklowa jako podłoże, która jest następnie wytrawiana. Zaskakujące dla wielu było jednak odkrycie wzrostu CVD grafenu na folii miedzianej, który wykazuje doskonałą jednorodność i precyzyjną kontrolę warstwowania. W tym procesie wzrost grafenu jest ograniczony jedynie wielkością powierzchni.

Artykuł badawczy pokazuje, że CVD tworzy wielkoskalowe i wysokiej jakości warstwy grafenu na miedzi, które można przenieść na dowolne podłoże, a następnie wytrawić w dowolnym pożądanym kształcie. Szczegóły można znaleźć w adresie URL naszego źródła.