Grafen är en kemisk släkting till diamanter, kol eller grafit av blyertspennor. Det är ett av de hårdaste och mest motståndskraftiga materialen i världen. Med bara ett atomlager (mindre än en miljondels millimeter tjockt) är det också ett av de tunnaste materialen i universum.

Vilket gör grafen till ett material med enorm ekonomisk potential. Detta beror på att grafenbaserade produkter kan användas i solceller, skärmar och datorapplikationer. Grafentransistorer är till exempel mycket snabbare än kiseltransistorer.

Det som saknas nu är dock möjligheten att producera grafen i stor skala till låg kostnad. Men detta har också framgångsrikt arbetats med i flera år. Det finns många tillverkningstekniker för grafen. En lovande tillverkningsvariant är CVD-processen (Chemical Vapor Deposition). I CVD-processen genereras en kemisk reaktion på en yta med hjälp av en gasblandning och förhöjd temperatur för att syntetisera grafen och sedan överföra den till en mängd olika substrat genom etsning och stämpling.

Forskare har nu hittat den optimala katalysatorn för produktion av storväxande grafenytor. Detta är nickelfilm som substrat, som sedan etsas bort senare. Det som var överraskande för många var dock upptäckten av CVD-tillväxt av grafen på kopparfolie, vilket visar utmärkt homogenitet och exakt kontroll av skiktning. I denna process begränsas tillväxten av grafen endast av ytans storlek.

Forskningsartikeln visar att CVD bildar storskaliga och högkvalitativa grafenskikt på koppar, som kan överföras till vilket substrat som helst och sedan etsas i önskad form. Detaljer finns i webbadressen till vår källa.