Grafen, elmasların, kömürün veya kalem uçlarının grafitinin kimyasal bir akrabasıdır. Dünyanın en sert ve en dayanıklı malzemelerinden biridir. Sadece bir atomik tabaka ile (milimetrenin milyonda birinden daha az kalınlıkta), aynı zamanda evrendeki en ince malzemelerden biridir.

Bu da grafeni muazzam ekonomik potansiyele sahip bir malzeme yapar. Bunun nedeni, grafen bazlı ürünlerin güneş pillerinde, ekranlarda ve bilgisayar uygulamalarında kullanılabilmesidir. Örneğin grafen transistörler, silikon transistörlerden çok daha hızlıdır.

Bununla birlikte, şu anda eksik olan şey, düşük maliyetle büyük ölçekte grafen üretme olasılığıdır. Ancak bu aynı zamanda birkaç yıldır başarıyla üzerinde çalışılmaktadır. Grafen için çok sayıda üretim tekniği vardır. Gelecek vaat eden bir üretim çeşidi CVD (Kimyasal Buhar Biriktirme) prosesidir. CVD prosesinde, grafen sentezlemek ve daha sonra aşındırma ve damgalama yoluyla çeşitli substratlara aktarmak için bir gaz karışımı ve yüksek sıcaklık vasıtasıyla bir yüzeyde kimyasal bir reaksiyon üretilir.

Araştırmacılar şimdi büyük büyüyen grafen yüzeylerinin üretimi için en uygun katalizörü buldular. Bu, daha sonra kazınmış bir substrat olarak nikel filmidir. Bununla birlikte, birçokları için şaşırtıcı olan şey, bakır folyo üzerinde grafenin CVD büyümesinin keşfiydi, bu da mükemmel homojenlik ve katmanlamanın hassas kontrolünü gösteriyordu. Bu süreçte, grafenin büyümesi sadece yüzeyin büyüklüğü ile sınırlıdır.

Araştırma makalesi, CVD'nin bakır üzerinde herhangi bir substrata aktarılabilen ve daha sonra istenen herhangi bir şekle kazınabilen büyük ölçekli ve yüksek kaliteli grafen katmanları oluşturduğunu göstermektedir. Ayrıntılar kaynağımızın URL'sinde bulunabilir.