گرافین ہیروں ، کوئلے یا پنسل لیڈز کے گریفائٹ کا ایک کیمیائی رشتہ دار ہے۔ یہ دنیا میں سب سے مشکل اور سب سے زیادہ لچکدار مواد میں سے ایک ہے. صرف ایک جوہری پرت (ایک ملی میٹر موٹی کے دس لاکھ ویں حصے سے بھی کم) کے ساتھ، یہ بھی کائنات کے سب سے پتلے مواد میں سے ایک ہے.

جو گرافین کو بے پناہ معاشی صلاحیت والا مواد بناتا ہے۔ اس کی وجہ یہ ہے کہ گرافین پر مبنی مصنوعات شمسی خلیوں ، ڈسپلے اور کمپیوٹر ایپلی کیشنز میں استعمال کی جاسکتی ہیں۔ مثال کے طور پر ، گرافین ٹرانزسٹر ، سلیکون ٹرانزسٹر سے کہیں زیادہ تیز ہیں۔

تاہم، فی الحال جو چیز غائب ہے وہ کم قیمت پر بڑے پیمانے پر گرافین تیار کرنے کا امکان ہے. لیکن اس پر بھی کئی سالوں سے کامیابی سے کام کیا گیا ہے۔ گرافین کے لئے متعدد مینوفیکچرنگ تکنیک موجود ہیں. مینوفیکچرنگ کی ایک امید افزا قسم سی وی ڈی (کیمیکل ویپر ڈیپوزیشن) کا عمل ہے۔ سی وی ڈی کے عمل میں ، گیس کے مرکب اور بلند درجہ حرارت کے ذریعہ سطح پر ایک کیمیائی رد عمل پیدا ہوتا ہے تاکہ گرافین کی تشکیل کی جاسکے اور پھر اسے ایچنگ اور اسٹیمپنگ کے ذریعہ مختلف سبسٹریٹس میں منتقل کیا جاسکے۔

محققین نے اب بڑے پیمانے پر بڑھتی ہوئی گرافین سطحوں کی پیداوار کے لئے بہترین محرک تلاش کیا ہے. یہ ایک سبسٹریٹ کے طور پر نکل فلم ہے ، جسے بعد میں نقش کیا جاتا ہے۔ تاہم، بہت سے لوگوں کے لئے حیرت کی بات یہ تھی کہ تانبے کے ورق پر گرافین کی سی وی ڈی کی نشوونما کی دریافت، جو پرت کے بہترین یکسانیت اور درست کنٹرول کو ظاہر کرتی ہے. اس عمل میں ، گرافین کی ترقی صرف سطح کے سائز سے محدود ہوتی ہے۔

تحقیقی مضمون سے پتہ چلتا ہے کہ سی وی ڈی تانبے پر بڑے پیمانے پر اور اعلی معیار کی گرافین پرتیں تشکیل دیتا ہے ، جسے کسی بھی سطح پر منتقل کیا جاسکتا ہے اور پھر کسی بھی مطلوبہ شکل میں نقش کیا جاسکتا ہے۔ تفصیلات ہمارے ماخذ کے یو آر ایل میں مل سکتی ہیں.